干法蚀刻原理

原理是利用等离子气体进行材料上的物理和化学双重蚀刻。

干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，可以更快地与材料进行反应。还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，轰击被刻蚀物的表面时，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。干法刻蚀又分为三种：物理性刻蚀、化学性刻蚀、物理化学性刻蚀。其中物理性刻蚀又称为溅射刻蚀。该溅射刻蚀靠能量的轰击打出原子的过程和溅射非常相像。