光刻机曝光之后的步骤

步骤是后烘工序。

光刻机曝光之后的步骤是后烘工序。光刻工序流程为：衬底清洗、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、定影、坚膜、图形转移、去胶等。光刻工序曝光之后的步骤是后烘，即对光刻胶膜的烘烤。