格科微arf光刻机是什么制程

格科微arf光刻机不会超过28纳米制程。

格科微有限公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成。在3月24日，格科半导体再次迎来了建厂重要标志性时刻，整套生产线中的最关键设备——ASML先进ArF光刻机成功搬入。从12英寸晶圆来分析，该光刻机不会太低级，但毕竟是制造摄像方面的，所以最高也就是28纳米制程的。